高真空电子束蒸发镀膜机可用于生产、科学实验及教学,可根据用户要求专门订制。
该类设备是在高真空条件下,采用电子束轰击材料加热蒸发的方法,在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等;
可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜;可镀各种高熔点材料。
设备特点
设备具有真空度高、抽速快、基片装卸方便的特点,配备 E 型电子束蒸发源和电阻蒸发源。PID自动控温,具有成膜均匀、放气量小和温度均匀的优点。
可根据用户使用要求,选配石英晶体膜厚自动控制及光学膜厚自动控制两种方式,通过PLC和工控机联合实现对整个镀膜过程的全程自动控制,包
括真空系统、烘烤系统、蒸发过程和膜层厚度的监控功能等,从而提高了工作效率和保证产品质量的一致性和稳定性。
极限真空:7×10-5Pa~7×10-6Pa
设备总体漏放率:关机12小时,≤10Pa
恢复工作真空时间短,大气至7×10-4Pa≤30分钟;
设备构成
E 型电子束蒸发qiang、电阻热蒸发源组件(可选配)、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵真空机组、旋转基片加热台、
工作气路、样品传递机构,膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。
可选件:膜厚监控仪,恒温制冷水箱。
热蒸发源种类及配置
E 型电子束蒸发系统1套,功率:6KW~10KW、其它功率(可根据用户要求选配);坩埚数量:1~8只,可根据用户要求选配;
电阻热蒸发源组件,数量:1~4套(可根据用户要求配装);
电阻热蒸发源种类:钽(钨或钼)金属舟热蒸发源组件、石英舟热蒸发源组件、钨极或钨蓝热蒸发源组件、钽炉热蒸发源组件(配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚)、束源炉;
热蒸发组件(配石英坩埚或氮化硼坩埚)。
操作方式
手动、半自动
鹏城半导体技术(深圳)有限公司,由哈尔滨工业大学(深圳)与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术*与市场*的交叉点,寻求创新**与可持续发展,解决产业的痛点和国产化难题,争取产业链的自主可控。
公司核心业务是半导体材料、工艺和装备的研发设计、生产制造。
公司人才团队知识结构完整,有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队;还有来自工业界的高级装备设计师团队,他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。
公司依托于哈尔滨工业大学(深圳),具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台,可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市光明区,并在沈阳市设有全资子公司,具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。