一年一度行业盛会,*八届国际*三代半导体论坛(IFWS )&*十九届中国国际半导体照明论坛(SSLCHINA)于2023年2月7日-10日(7日报到)在苏州金鸡湖凯宾斯基大酒店召开。
在这场被视为“***三代半导体行业*”的盛会上,由2014年诺贝尔物理奖获得者、日本工程院院士、美国工程院院士、中国工程院外籍院士、日本名古屋大学未来材料与系统研究所教授天野浩,美国工程院院士、美国国家发明家院士、中国工程院外籍院士、美国弗吉尼亚理工大学的大学特聘教授Fred LEE**200多个报告嘉宾,紧扣论坛“低碳智联·同芯共赢”大会主题,将在开、闭幕大会、主题分会及同期共计近30余场次活动中,全面展现*三代半导体产业链*技术进展及产业发展“风向"。
国际*三代半导体论坛(IFWS)是由*三代半导体产业技术创新战略联盟(CASA)在中国地区举办的、具备较强影响力的*三代半导体领域年度盛会,是*****三代半导体新兴产业发展;届时鹏城半导体技术(深圳)有限公司(简称:鹏城半导体)也受主办方的邀请将携多款真空镀膜解决方案包括热丝CVD金刚石设备、多功能磁控溅射仪、电子束蒸镀设备、等离子体增强化学气相沉积等亮相该会议。
热丝CVD金刚石设备(热丝法化学气相沉积系统):研发设计制造了热丝CVD金刚石设备,分为实验型设备和生产型设备两类。
设备主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜、硬质合金基金刚石涂层刀具、陶瓷轴承内孔镀金刚石薄膜等。例如可以制造大尺寸金刚石多晶晶圆片,用于大功率器件、高频器件及大功率激光器的散热热沉;可用于生产制造防腐耐磨硬质涂层;环保领域污水处理用的耐腐蚀金刚石导电电极等。
可用于平面工件的金刚石薄膜制备,也可用于刀具表面或其它不规则表面的金刚石硬质涂层制备。
平面工作尺寸:圆形平面工作的尺寸:较大φ650mm。
矩形工作尺寸的宽度600mm/长度可根据镀膜室的长度确定(如:工件长度1200mm)。
配置冷水样品台。
热丝电源功率:可达300KW,1KW ~300KW可调(可根据用户工艺需求配置功率范围)
多功能磁控溅射仪(磁控溅射镀膜机)是用磁控溅射的方法,制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等;适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜系及合金膜;可镀制磁性材料和非磁性材料。
设备关键技术特点
秉承设备为工艺实现提供实现手段的理念,我们做了如下设计和工程实现,实际运行效果良好,为用户的**工艺实现提供了精准的工艺设备方案。
靶材背面和溅射靶表面的结合处理
-靶材和靶面直接做到面接触是很难的,如果做不到面接触,接触电阻将增大,导致离化电场的幅值不够(接触电阻增大,接触面的电场分压增大),导致镀膜效果不好;电阻增大导致靶材发热升温,降低镀膜质量。
-靶材和靶面接触不良,导致水冷效果不好,降低镀膜质量。
-增加一层特殊导电导热的软薄的物质,保证面接触......
电子束蒸镀设备(高真空电子束蒸发镀膜机)是在高真空条件下,采用电子束轰击材料加热蒸发的方法,在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等;可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜;可镀各种高熔点材料。
真空性能
极限真空:7×10^-5Pa~7×10^-6Pa
设备总体漏放率:关机12小时,≤10Pa
恢复工作真空时间短,大气至7×10^-4Pa≤30分钟;
小编在此就不一一介绍啦,2023年2月7日-10日在苏州金鸡湖凯宾斯基大酒店与您**技术交流与探讨。苏州不见不散!